磁控鍍膜機濺射鍍膜膜厚均勻性特性

　　濺射鍍膜膜厚均勻性是間接衡量鍍膜工藝的最終標準之一，它涉及鍍膜過程的各個方面。因此，制備膜厚均勻性好的薄膜需要建立一個濺射鍍膜膜厚均勻性綜合設計系統(tǒng)，對濺射鍍膜的各個方面進行分類、歸納和總結，找出其內在聯(lián)系。一般來說，設計系統(tǒng)的建立應該具備的原則，以確定其基本的組織框架。以下從四個方面敘述其性質：

　?、僖话阈裕阂笙到y(tǒng)在范圍內是適用或者普遍存在的。對于本課題來說，系統(tǒng)能夠滿足工業(yè)上平板基片濺射鍍膜的基本工藝要求，即濺射鍍膜工藝過程的共性問題。

　?、谔厥庑裕合到y(tǒng)對特定研究對象達到的適用性。針對大面積平板基片濺射鍍膜來說，就是濺射鍍膜中的尺寸效應成為系統(tǒng)重要部分，如薄膜均勻性，基片加熱的均勻性，材料的線性膨脹和變形，靶面的電流分布，氣體分布和電磁場分布等。這一系列問題被尺寸效應突顯出來。因此尺寸效應成為系統(tǒng)的個性問題。

　?、坶_放性：系統(tǒng)各部分是有機結合并不斷發(fā)展的。隨著技術的進步，各部分功能必然會得到進一步發(fā)展，從而使系統(tǒng)的綜合性能得到提高。自動控制技術的發(fā)展使系統(tǒng)的功能變得強大：濺射過程中對等離子體光譜的監(jiān)控技術，以及對電磁場的操縱能力使得系統(tǒng)對整個濺射過程的參數(shù)控制程度達到限度，可以實現(xiàn)精細設計。系統(tǒng)的開放性屬于橫向發(fā)展。

　?、芾^承性：系統(tǒng)發(fā)展到程度，就會發(fā)生由量變到質變的過程。系統(tǒng)在保汪原有功能基礎上不斷完善和提高。薄膜制備技術會隨著理論的發(fā)展而逐步深入。對非平衡磁控濺射和等離子體理論研究，促進了濺射技術的進一步發(fā)展。隨之而來的是對系統(tǒng)進行升級改造，以實現(xiàn)新的功能。繼承性是系統(tǒng)的縱向發(fā)展。