磁控濺射卷繞鍍膜機技術由于覆蓋領域廣泛，雖然比蒸發(fā)卷繞鍍膜機技術起步晚，但發(fā)展極為迅速，在未來的高科技領域和環(huán)保節(jié)能領域將大有可為。

　　磁控濺射卷繞鍍膜是采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)的方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進行單層或多層鍍膜。磁控濺射卷繞鍍膜設備與蒸發(fā)卷繞鍍膜設備相比，生產(chǎn)效率較低、設備成本高，這是由鍍膜原理所決定的。但磁控濺射具有鍍膜溫度低、可任意位置安放多個靶連續(xù)鍍多層膜、鍍膜材料適應范圍寬、膜層厚度可控、細膩、均勻、附著牢固等優(yōu)點。