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發(fā)布時間：2020-12-16磁控濺射鍍膜機磁控濺射技術的應用范圍
磁控濺射目前是一種應用十分廣泛的薄膜沉積技術，濺射技術上的不斷發(fā)展和對新功能薄膜的探索研究，使磁控濺射應用延伸到許多生產(chǎn)和科研領域。在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)生長及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。
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發(fā)布時間：2020-11-18磁控濺射鍍膜機廣泛應用塑料制品、陶瓷等行業(yè)
磁控濺射光學鍍膜機廣泛應用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。
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發(fā)布時間：2020-11-09磁控濺射鍍膜機鍍膜原理
磁控濺射鍍膜機使用磁控濺射鍍膜靶源，無論是非平衡式還是平衡式的磁控濺射鍍膜靶源，如果是靜止的磁鐵產(chǎn)生的磁場功對材的利用率會小于30%。
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發(fā)布時間：2018-01-04磁控濺射鍍膜機?技術規(guī)格特點
磁控濺射技術是最常用的一種物理氣相沉積技術。磁控濺射鍍膜機可用于制備金屬、半導體、絕緣體等多種薄膜材料，具有設備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強等優(yōu)點，因此被廣泛使用。
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