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真空鍍膜的過程中噴點形成的原因

2020-01-08  來自: 肇慶高要區(qū)恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數(shù):1383


  真空鍍膜的過程中有時會產(chǎn)生噴點及潮斑(花斑),這些噴點、潮斑(花斑)影響了薄膜的品質(zhì),降低產(chǎn)品的合格率。本文將對噴點、潮斑(花斑)的形成原因作一探討。

  一、噴點形成的原因

  鍍膜過程中產(chǎn)生噴點主要有以下幾種原因:

  1、鍍膜材料純度不高,含雜質(zhì)較多,預熔過程中無法將這些雜質(zhì)去除,蒸鍍過程中雜質(zhì)濺上工件表面形成噴點。

  2、材料較為潮濕,預熔時電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化,在蒸鍍過程中也容易產(chǎn)生噴點(這種情況在用國產(chǎn)電子槍鍍制MgF2及一些直接升華的材料時較易發(fā)生)。

  3、鍍膜前對材料進行預熔時不夠充分,蒸鍍過程中材料里的細小顆粒濺上工件表面形成噴點。

  4、鍍膜過程中,電子槍束流過大引起的材料飛濺產(chǎn)生的噴點。

關鍵詞: 真空鍍膜

肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術有限公司主要產(chǎn)品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


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